技术特点：● 亚微米线宽工艺 ● 高均匀性和一致性 ● 去离子水减少高达80% ● 工艺介质减少高达80% ● 封闭式系统 ● 可柔性多腔室组合 | 设备用途：● 闪蚀工艺 ● 清洗工艺 ● 剥膜工艺 ● 显像工艺 |
板级旋风DES
技术特点：● 亚微米线宽工艺 ● 高均匀性和一致性 ● 去离子水减少高达80% ● 工艺介质减少高达80% ● 封闭式系统 ● 可柔性多腔室组合 | 设备用途：● 闪蚀工艺 ● 清洗工艺 ● 剥膜工艺 ● 显像工艺 |
技术特点：● 亚微米线宽工艺 ● 高均匀性和一致性 ● 去离子水减少高达80% ● 工艺介质减少高达80% ● 封闭式系统 ● 可柔性多腔室组合 | 设备用途：● 闪蚀工艺 ● 清洗工艺 ● 剥膜工艺 ● 显像工艺 |
技术特点：● 亚微米线宽工艺 ● 高均匀性和一致性 ● 去离子水减少高达80% ● 工艺介质减少高达80% ● 封闭式系统 ● 可柔性多腔室组合 | 设备用途：● 闪蚀工艺 ● 清洗工艺 ● 剥膜工艺 ● 显像工艺 |
