概述

该设备为专用高浓度O3臭氧水生成,可用于玻璃基本、液晶面板、半导体以及硅片等产品的生产制程中替代双氧水等工序使用。
目前如制绒后清洗、镀膜前清洗、普代RCA清洗、BOE清洗.黑硅表面清洗、高质氧化膜生长以及高清要求的消毒杀菌均有大幅度的高效使用。

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