产品分类 超声波/兆声波清洗机碳氢清洗机等离子清洗设备高压喷淋清洗设备卧式平板清洗设备USC干式超声清洗设备 全国免费咨询热线:13823282012 18826579629 黄先生 13682524110 杨先生邮箱:sale@ss-china.com.cn地址:广东省深圳市宝安区福永街道新塘工业园永泰东路10号3栋 兆声波清洗机 机型简介适用工艺 在集成电路制造前后道工艺制程中会遇到超微颗粒物、金属残留、光刻胶残留等问题。这些颗粒或者残留会影响芯片的良率,需要在工艺过程中将硅片表面氧化物、氮化物去除掉。 本系列全自动槽式兆声波清洗机采用模块化设计,广泛用于集成电路领域、先进封装领域里的清洗、刻蚀、光刻胶去除等工艺。系统具有兆声波系统、管路防静电等先进配置。独特的控制逻辑能够实现在异常情况下对硅片的保护。 ●集成电路领域:膜前清洗、去胶清洗、氮化硅腐蚀、RCA清洗、外延前清洗; ●先进封装领域:TSV刻蚀后清洗、UBM/RDL清洗、键合清洗。